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    光刻工藝制程過濾解決方案

     

    光刻工藝是指在光線(一般是紫外光、深紫外光、極紫外光)的作用下,借助光刻膠將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術,光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一。其成本約為整個硅片制造工藝的1/3,耗費時間約占整個硅片工藝的40~60%。在半導體制造領域,隨著半導體加工的線寬越來越小,光刻工藝對極小污染物的控制苛刻到極致,不光對顆粒嚴格控制,對低析出物也有著嚴苛的要求。邁博瑞使用先進的設備工藝,生產出的產品具有優秀的過濾效率,潔凈度以及化學耐受性以應對不同的SEMI光刻工藝應用

    光刻工藝

     

    光刻工藝制程過濾產品

    制程工藝 邁博瑞推薦濾芯系列*
    光刻膠過濾 Photo-Novel系列 專為光刻膠,有機溶劑等工藝中的過濾濾芯
    Photo-Unix系列  UPE膜濾芯

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